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產(chǎn)品型號(hào)：
所屬分類(lèi)：
產(chǎn)品時(shí)間：2025-08-02
簡(jiǎn)要描述：日本stil線陣視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)MC2MC2線陣視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)完美地解決了傳統(tǒng)機(jī)器視覺(jué)在表面瑕疵檢測(cè)的痛點(diǎn)，具有明顯的優(yōu)勢(shì)：v 無(wú)需外接光源照明，光譜共焦傳感器的光源即為檢測(cè)所需的同軸光源；v 環(huán)境光線的變化不影響成像效果，適應(yīng)性強(qiáng)；
日本stil線陣視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)MC2
MC2線陣視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)完美地解決了傳統(tǒng)機(jī)器視覺(jué)在表面瑕疵檢測(cè)的痛點(diǎn)，具有明顯的優(yōu)勢(shì)：
v 無(wú)需外接光源照明，光譜共焦傳感器的光源即為檢測(cè)所需的同軸光源；
v 環(huán)境光線的變化不影響成像效果，適應(yīng)性強(qiáng)；
v 適應(yīng)所有的物體表面，無(wú)論是漫反射表面，鏡面（高光面）或者透明物體表面；
v 高達(dá)80KHz的掃描速度，并可實(shí)現(xiàn)非常低的像素尺寸(小像素可達(dá)0.2×0.2μm2)；
v gao可至2.6mm的高景深，在景深范圍內(nèi)的任何一個(gè)位置都是完美聚焦，成像更為清晰且無(wú)需進(jìn)行Z軸對(duì)焦。
優(yōu)勢(shì)：
v 無(wú)需外接光源照明，光譜共焦傳感器的光源即為檢測(cè)所需的同軸光源；
v 環(huán)境光線的變化不影響成像效果，適應(yīng)性強(qiáng)；
v 適應(yīng)所有的物體表面，無(wú)論是漫反射表面，鏡面（高光面）或者透明物體表面；
v 高達(dá)80KHz的掃描速度，并可實(shí)現(xiàn)非常低的像素尺寸(小像素可達(dá)0.2×0.2μm2)；
v gao可至2.6mm的高景深，在景深范圍內(nèi)的任何一個(gè)位置都是完美聚焦，成像更為清晰且無(wú)需進(jìn)行Z軸對(duì)焦。
日本stil線陣視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)MC2
| MC2四種鏡頭配置參數(shù): | |||||||||
| 產(chǎn)品型號(hào) | MC2-701-N1 | MC2-702-N1 | MC2-703-N1 | MC2-704-N1 | MC2-705-N1 | MC2-706-N1 | MC2-707-N1 | MC2-708-N1 | |
| 示例 | unit | NanoView 2K | NanoView 4K | MicroView 2K | MicroView 4K | DeepView 2K | DeepView 4K | WireView 2K | WireView 4K |
| 線長(zhǎng) | mm | 1.35 | 1.8 | 4 | 1.5 | ||||
| 景深 | µm | 100 | 500 | 2600 | 900 | ||||
| 工作距離 | mm | 4.6 | 10 | 47.8 | 7.8 | ||||
| 放大率 | 17.3 | 12.5 | 5.6 | 15.6 | |||||
| 數(shù)值孔徑 | 0.7 | 0.5 | 0.35 | 0.75 | |||||
| 大樣本斜率 | ° | 40 | 30 | 20 | 46 | ||||
| 樣本像素大小 | µm | 0.82 | 0.41 | 1.12 | 0.56 | 2.5 | 1.23 | 0.9 | 0.45 |
| 光學(xué)頭: 長(zhǎng)度 | mm | 413.8 | 393.3 | 402.6 | 382.1 | 422.9 | 403.9 | 457.7 | 437.2 |
| 光學(xué)頭: 直徑 | mm | 50 | 50 | 75 | 70 | ||||
| 光學(xué)頭: 重量 | g | - | - | - | - | - | - | ||
